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巴黎卡诗「自在」系列全新上市 开启去屑新时代
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时间:2023-02-15

   过去30年,巴黎卡诗在头皮细胞领域持续深入研究,针对控油、去屑、防脱和舒缓敏感问题获得了重大突破。此次,巴黎卡诗更领先于行业,研究头皮问题至细胞级,并推出了巴黎卡诗「自在」系列。

    经过30年的深入专业研究,巴黎卡诗发现头屑等问题的根源是头皮细胞更新速度紊乱。头皮和人体其他任何皮肤一样,都会不断地通过脱落老废细胞和促生新细胞来进行自我更新,健康头皮细胞焕新稳定,周期为14天,头屑头皮则因细胞焕新过快,周期为7天,导致老废细胞无法自然脱落,在头皮表面大量堆积,形成“头屑”。而促使细胞焕新过快的有3大原因:压力、疲劳导致的头皮水油平衡失调,马拉色菌因油脂而过度繁衍致使头皮环境失衡,久而久之头皮屏障受损。因此,要根源解决头皮问题,必须要从头皮细胞出发。

     针对于此,巴黎卡诗「自在」系列,运用细胞级去屑科技,3大护肤级成分,定向直击3大问题,从根源对抗头屑,调整头皮细胞焕新,配合独特配方的高级香氛实现奢华的护发体验,带来长期控油去屑功效与奢华护理。

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